У галузі виробництва високотехнологічних чіпів голландська компанія ASML тривалий час займала лідируючі позиції. Проте інноваційна літографічна технологія від Canon готова запропонувати серйозну конкуренцію.

У п’ятницю японський гігант Canon, який широко відомий своїми професійними камерами, анонсував нову технологію на основі наноштампової літографії (NIL). За заявами компанії, ця технологія дозволить створювати елементи з техпроцесом до 5 нм. З урахуванням подальших досліджень Canon планує досягти виробництва елементів з 2 нм техпроцесом, забезпечивши високу якість та мінімальні дефекти.
Технологія Canon на основі наноштампової літографії (NIL) є серйозною конкуренцією ультрафіолетової літографії (EUV) від ASML. Відмінною рисою NIL є її незалежність від складних оптичних систем та дзеркал, які використовуються в EUV. Це може дозволити Canon обходити американські експортні обмеження на сучасне обладнання для чіпів, призначене для Китаю.

Принцип роботи технології Canon полягає у застосуванні маски з нанесеним дизайном на резистивний шар кристала, аналогічно процесу друку. Як підкреслила компанія, це дозволяє створювати складні дво- та тривимірні схеми одним рухом.

Проте, незважаючи на амбітні заяви Canon про техпроцес до 5 нм, аналітик з Gartner Гаурав Гупта висловив побоювання. Він зауважив: «Було б дивно, якби Canon справді зробила прорив». Гупта також додав, що реальних змін на ринку варто очікувати не раніше, ніж через п’ять років, і акцент буде зроблено на технології пам’яті.

Однак, якщо технологія проявить себе як ефективне рішення для створення новітніх логічних схем, Гупта припускає, що на її експорт до Китаю можуть бути обмежені.